Поиск классификационных решений ФТС, ЕЭК и ВТО по коду «8419893000»
8419893000Письмо ФТС России от 13.10.2016 № 06-30/52143
Установки для вакуумного осаждения металла из паровой фазы. Магнетронное распыление - технология нанесения тонких пленок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда - диодного разряда в скрещенных полях. Технологическое значение магнетронного распыления заключается в том, что бомбардирующие поверхность катода (мишени) ионы распыляют ее. При столкновении ионов с поверхностью мишени происходит передача момента импульса материалу. Падающий ион вызывает каскад столкновений в материале. После многократных столкновений импульс доходит до атома, расположенного на поверхности материала, и под воздействием импульса атом отрывается от мишени. Покидающие поверхность мишени частицы осаждаются в виде пленки на подложке, а также частично рассеиваются на молекулах остаточных газов или осаждаются на стенках рабочей вакуумной камеры. Отрывание частиц от мишени при магнетронном распылении осуществляется за счет передачи импульса материалу, а не за счет воздействия температуры на материал (нагревания материала и дальнейшего его перехода в газообразное состояние)